А. В. Вахрушев, А. Ю. Федотов, А. В. Северюхин, Р. Г. Валеев, “Моделирование процессов осаждения нанопленок на подложку пористого оксида алюминия”, ХФМ, 2015, том 17, выпуск 4,страницы 511

Эта публикация цитируется в 1 статье

Моделирование процессов осаждения нанопленок на подложку пористого оксида алюминия

А. В. Вахрушев^a, А. Ю. Федотов^a, А. В. Северюхин^a, Р. Г. Валеев^b

^a Институт механики Уральского отделения РАН, 426067, г. Ижевск, ул. Т. Барамзиной, 34
^b Физико-технический институт Уральского отделения РАН, 426000, г. Ижевск, ул. Кирова, 132

Аннотация: В работе приведена постановка задачи и описание методики изучения процессов осаждения нанопленок на подложку пористого алюминия. Рассмотрены уравнения, составляющие основу многочастичного потенциала - модифицированного метода погруженного атома. В качестве осаждаемых материалов использовались различные элементы периодической системы Менделеева. Получены различные механизмы заращивания пористой подложки оксида алюминия. Сформулированы рекомендации для получения нанопленочных материалов различной структуры.

Ключевые слова: пористый оксид алюминия, модифицированный метод погруженного атома, эпитаксия, нанопленки, моделирование, молекулярная динамика.

УДК: 539.216+539.231