Two-stage mechanism of formation of ordered surface nanostructures under atomic deposition

Развит двухстадийный механизм образования упорядоченных поверхностных наноструктур при осаждении атомов. На первой стадии, происходит кооперативная дефектно-деформационная (ДД) нуклеация затравочной наноструктуры, описываемая оригинальным детерминированным ДД уравнением типа уравнения Курамото-Сивашинского(КС) для концентрации мобильных адатомов (поверхностных дефектов). Поверхностный рельеф, образованный на стадии нуклеации, связанный с деформационным потенциалом поверхностного дефекта, служит самоорганизованной маской для последующего роста наноструктр, описываемого обычным уравнением Кардара-Паризи-Жанга-(КПЖ) для высоты рельефа. Компьютерные решения нелинейных ДДКС и КПЖ уравнений описывают двухстадийное образование, в зависимости от знака потенциала деформации поверхностного дефекта, неупорядоченных и гексагонально упорядоченных ансамблей наночастиц или сотовых наноструктур пор. Показано, что взаимодействие пространственных ДД гармоник на стадии кооперативной нуклеации играет ключевую роль в определении характеристик наноструктур.