Эффект резонансной фотоупругости многослойных структур с квантовыми ямами в спектральной области квазидвумерных экситонов

Теоретически рассмотрен эффект линейной и нелинейной фотоупругости в слоистых структурах с квантовыми ямами в области резонансов квазидвумерных экситонов. В квазистатическом квазиоднородном приближении получено выражение для резонансной части диэлектрической проницаемости и проанализированы линейные и нелинейные компоненты по тензору деформации. Показано, что вклад в линейные и нелинейные коэффициенты фотоупругости от дискретных экситонных состояний в слоистых структурах с квантовыми ямами $\varepsilon_{n,ik}^{2D}$ может превышать такой же вклад от трехмерных экситонных состояний $\varepsilon_{n,ik}^{3D}$. Существенным является соотношение между периодом сверхрешетки $L$ и боровским радиусом трехмерного экситона $a_{\text{Б}}$. При $L <a_{\text{Б}}$ величина $\varepsilon_{n,ik}^{2D}/\varepsilon^{3D}_{n,ik}> 4\div 6$, однако при $L > (4\div 6)a_{\text{Б}}$, $\varepsilon^{2D}_{n,ik}/\varepsilon^{3D}_{n,ik} < 1$. Указано на возможность наблюдения эффекта фотоупругости в сверхрешетках в области резонансов квазидвумерных экситонов при комнатных температурах.