RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика твердого тела // Архив

Физика твердого тела, 2021, том 63, выпуск 1, страницы 80–84 (Mi ftt8201)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Полупроводники

Оптическая характеризация структурных и электрических свойств нанослоев $n$-GaP, выращенных на проводящих подложках (001) $n$-GaP

Б. Х. Байрамов, В. В. Топоров, Ф. Б. Байрамов

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия

Аннотация: Сообщается о результатах исследования структурных и электрических свойств гомоэпитаксиального наномасштабного слоя (001) $n$-GaP, толщиной 70 nm, выращенного методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений на проводящей сильнолегированной подложке кристалла $n$-GaP, ориентированного по оси (001). В спектре рамановского рассеяния света такого нанослоя $n$-GaP в образце $n$-GaP/$n$-GaP (001) в сравнении со спектром высокоомного кристаллического образца (001) $si$-GaP удалось обнаружить две достаточно узкие линии, приписанные колебаниям поперечных TO($\Gamma$)$_{-}$ фононов и высокочастотным продольным связанным плазмон-фононным LO($\Gamma$)$_{+}$ колебаниям. При этом установлено, что спектральные параметры LO($\Gamma$)$_{+}$ колебаний как в нанослое $n$-GaP, так и в подложке (001) n-GaP существенно отличаются между собой, а также и от спектральных параметров линии продольных оптических LO($\Gamma$)$_{-}$ фононов. Анализ выявленных строгих количественных особенностей спектральных параметров позволил получить ценную информацию о совершенстве кристаллической структуры наномасштабного гомоэпитаксиального слоя (001) $n$-GaP. Помимо этого, показано что, численные расчеты на основе микроскопической модели рассеяния света LO($\Gamma$)$_{+}$ колебаниями, обусловленного механизмами деформационного потенциала и электрооптическим рассеянием, позволили бесконтактным и неразрушающим образом определить концентрацию $n$ и подвижность $\mu$ свободных носителей заряда гомоэпитаксиального слоя наномасштабной толщины и проводящей сильнолегированной подложки. Полученные значения оказались $n_{\operatorname{hepi}}$=(3.25 $\pm$ 0.1)$\cdot$10$^{17}$ cm$^{-3}$ и подвижности $\mu_{\operatorname{hepi}}$=(40.0 $\pm$ 0.1) cm$^{2}\cdot$ V$^{-1}\cdot s^{-1}$ для гомоэпитаксиального слоя (001) $n$-GaP в сравнении с $n_{\operatorname{subs}}$=(2.52 $\pm$ 0.1)$\cdot$10$^{17}$ cm$^{-3}$ и $\mu_{\operatorname{subs}}$=(51.0 $\pm$ 0.1) cm$^{2}\cdot$ V$^{-1}\cdot s^{-1}$ для подложки (001) $n$-GaP образца $n$-GaP/$n$-GaP (001).

Ключевые слова: гомоэпитаксиальный наномасштабный слой (001) $n$-GaP, сильнолегированная подложка, концентрация и подвижность носителей заряда.

Поступила в редакцию: 10.09.2020
Исправленный вариант: 10.09.2020
Принята в печать: 16.09.2020

DOI: 10.21883/FTT.2021.01.50402.193


 Англоязычная версия: Physics of the Solid State, 2021, 63:1, 79–83

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024