RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика твердого тела // Архив

Физика твердого тела, 2020, том 62, выпуск 4, страницы 621–626 (Mi ftt8457)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Физика поверхности, тонкие пленки

Влияние структурных свойств на электросопротивление тонких пленок Al/Ag в процессе твердофазной реакции

Р. Р. Алтунинa, Е. Т. Моисеенкоa, С. М. Жарковab

a Сибирский федеральный университет, г. Красноярск
b Институт физики им. Л. В. Киренского СО РАН, г. Красноярск

Аннотация: На основании результатов исследования процессов твердофазной реакции в тонких пленках Al/Ag (атомное соотношение Al : Ag = 1 : 3) методами in situ дифракции электронов и измерения величины удельного электросопротивления установлена температура начала реакции, а также предложена модель структурных фазовых переходов. Твердофазная реакция начинается при 70$^\circ$C с образования твердого раствора Al-Ag на границе раздела нанослоев алюминия и серебра. Установлено, что в процессе реакции последовательно формируются интерметаллические соединения $\gamma$-Ag$_{2}$Al $\to$ $\mu$-Ag$_{3}$Al. Показано, что возможность формирования фазы $\mu$-Ag$_{3}$Al при твердофазной реакции в тонких пленках Al/Ag зависит от соотношения алюминия и серебра, при этом формирование фазы $\mu$-Ag$_{3}$Al начинается только после того как весь ГЦК-алюминий прореагирует.

Ключевые слова: тонкие пленки, фазообразование, Al/Ag, твердофазная реакция, дифракция электронов, удельное электросопротивление.

Поступила в редакцию: 16.12.2019
Исправленный вариант: 16.12.2019
Принята в печать: 17.12.2019

DOI: 10.21883/FTT.2020.04.49130.652


 Англоязычная версия: Physics of the Solid State, 2020, 62:4, 708–713

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024