RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Физика твердого тела // Архив

Физика твердого тела, 2020, том 62, выпуск 2, страницы 298–301 (Mi ftt8500)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физика поверхности, тонкие пленки

Адсорбция атомов Ga и Cl и молекулы GaCl на карбиде кремния: модельный подход

С. Ю. Давыдовa, О. В. Посредникb

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет «ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)

Аннотация: В рамках модели Халдейна–Андерсона вычислены металлическая ионная составляющие энергии адсорбции атомов Ga и Cl на С- и Si-гранях $p$- и $n$-SiC. Показано, во-первых, что во всех рассмотренных случаях величина ионного вклада превосходит величину вклада металлического. Во-вторых, при адсорбции на $p$-SiC энергия связи адатомов Ga больше, чем адатомов Cl, тогда как при адсорбции на $n$-SiC имеет место обратная ситуация. Предложена простая ионная модель адсорбции молекулы GaCl на карбиде кремния. Сопоставление с результатами других авторов демонстрируют приемлемость предлагаемых моделей.

Ключевые слова: зонные и локальные состояния, числа заполнения, энергия адсорбции.

Поступила в редакцию: 18.09.2019
Исправленный вариант: 18.09.2019
Принята в печать: 24.09.2019

DOI: 10.21883/FTT.2020.02.48882.596


 Англоязычная версия: Physics of the Solid State, 2020, 62:2, 350–353

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024