Влияние ориентации кремниевой подложки с буферным подслоем карбида кремния на диэлектрические и полярные свойства пленок нитрида алюминия

Исследуются диэлектрические и полярные свойства тонких пленок нитрида алюминия (AlN), эпитаксиально выращенных на различно ориентированных кремниевых подложках $p$-типа проводимости с буферным подслоем карбида кремния (SiC), а также на вицинальных плоскостях. По результатам исследований полярных свойств двумя независимыми методами – динамического пироэффекта и силовой микроскопии пьезоотклика, показано, что использование буферного слоя SiC существенно улучшает полярные свойства тонких слоев нитрида алюминия.