Аннотация:
Представлена новая технология формирования планарных сверхпроводниковых структур на основе пленок YBCO с металлическими контактами, полностью исключающая процессы травления. Нужная топология сверхпроводящих элементов из пленки YBCO создается предложенным методом “задающей маски”. Омические контакты к сверхпроводящей структуре изготавливаются методом взрывной фотолитографии. Для исследования возможностей данной технологии были проведены измерения сверхпроводящих мостиков шириной 3, 10 и 50 $\mu$m и тестовых структур для измерения контактного сопротивления.