Аннотация:
Показано, что слои (Ga, Mn)As, сформированные методом имплантации ионов Mn$^{+}$ в GaAs и последующего отжига импульсом эксимерного лазера с плотностью энергии до 200–300 mJ/cm$^{2}$, обладают свойствами полупроводника $p$-типа и ферромагнитными свойствами. Определена пороговая доза имплантированных ионов ($\sim$10$^{15}$ cm$^{-2}$) для активации акцепторов Mn. С дальнейшим повышением дозы ионов Mn$^{+}$ увеличивается слоевая концентрация дырок и температура Кюри. Петли гистерезиса в магнитополевых зависимостях эффекта Холла, отрицательное магнетосопротивление, магнитные и структурные исследования свидетельствуют о том, что слои являются аналогами однофазных ферромагнитных соединений (Ga, Mn)As, сформированных методом низкотемпературной молекулярно-лучевой эпитаксии.