Аннотация:
Исследовано влияние давления рабочего газа аргона (0.13-0.09 $\leq$P$\leq$ 1 Па) на микроструктуру и текстуру пленок кобальта, наносимых методом магнетронного распыления на постоянном токе на подложки SiO$_2$/Si при комнатной температуре. Показано, что при высоких давлениях аргона P$\approx$ 1-0.22 Па пленки кобальта обладают столбчатой микроструктурой по толщине, а кристаллическая структура пленок соответствует смешанной кристаллической фазе: гексагональной плотноупакованной (гпу) с текстурой (002) и гранецентрированной кубической (гцк) с текстурой (111). Пленки, полученные при P$\approx$ 0.13-0.09 Па, характеризуются кристаллической фазой с гцк кристаллической решеткой с текстурой (200) и неоднородны по толщине - на границе с подложкой в слое толщиной d$_c$ пленки обладают квазиоднородной микроструктурой, а при толщинах d > d$_c$ микроструктура пленки изменяется на «квазистолбчатую».