Аннотация:
Представлены результаты экспериментального исследования обратного рассеяния электронов с энергией 500 эВ на нанокластерах Au, сформированных на поверхности высокоориентированного пиролитического графита ВОПГ(0001) и аморфного SiO$_2$. Обнаружено, что в зависимости от размера нанокластеров измеренная интенсивность упругорассеянных электронов на отражение проявляет немонотонный характер. Показано, что наблюдаемые особенности можно объяснить увеличением среднеквадратичного смещения атомов нанокластера Au c уменьшением его размера. Различие в поведении зависимостей среднеквадратичного смещения атомов от размера нанокластеров, сформированных на поверхности ВОПГ(0001) и аморфного SiO$_2$, качественно объясняется явлением огрубления поверхности нанокластеров, происходящим при их формировании в сильно неравновесных условиях импульсного лазерного осаждения.