Аномальная температурная зависимость диффузии в кристаллах во внешних периодических полях

В работе методами компьютерного моделирования исследованы особенности диффузии частиц, находящихся под действием внешней периодической силы, в кристаллической решетке. Показано, что с изменением температуры их коэффициенты диффузии ведут себя аномальным образом. В некоторых температурных интервалах диффузия может возрастать с понижением температуры. Расположение и ширина этих интервалов зависят от частоты внешнего поля. Установлено, что величина коэффициента диффузии под действием внешнего периодического поля может возрастать более чем на девять порядков по сравнению с обычной диффузией при той же температуре. Проанализированы физические причины такой аномалии.