Инвертированный яблоновит, изготовленный методом лазерной нанолитографии, и его фотонная структура

Трехмерные фотонные кристаллы со структурой инвертированного яблоновита изготовлены методом нелинейной лазерной нанолитографии, основанной на двухфотонной полимеризации фоточувствительного материала. Соответствие структуры полученных образцов решетке инвертированного яблоновита подтверждено с помощью сканирующей электронной микроскопии. Произведен расчет фотонной зонной структуры инвертированного яблоновита, а также ряда родственных фотонных материалов, обладающих гранецентрированной кубической решеткой. Установлено, что фотонные свойства опала и яблоновита противоположны: полная запрещенная фотонная зона возникает в инвертированном опале и прямом яблоновите, а в прямом опале и инвертированном яблоновите отсутствует. Обсуждается метод создания идеальных трехмерных фотонных структур, обладающих полной запрещенной фотонной зоной в ИК- и видимом диапазоне спектра.