Подпороговое распыление при высоких температурах

Обнаружено распыление вольфрама ионами дейтерия с энергией 5 эВ при температуре мишени во время облучения 1470 К в плотной стационарной плазме. Известный в литературе порог распыления вольфрама ионами дейтерия составляет 160–200 эВ. Измеренный по потере веса коэффициент распыления вольфрама при энергии ионов дейтерия 5 эВ равен $1.5\cdot10^{-4}\,$атом/ион, что обычно наблюдается при энергии 250 эВ. Распылению сопутствует изменение рельефа поверхности: протравливание границ зерен и образование на поверхности вольфрама волнистой структуры. Обнаруженное подпороговое распыление объясняется потенциальным распылением адсорбированных атомов вольфрама, поступающих на поверхность при высокой температуре из межзеренного пространства в результате освобождения из ловушек междоузельных атомов. Волнообразная структура на поверхности – результат объединения адсорбированных атомов в упорядоченные кластеры.