Аннотация:
Исследованы зависимости электросопротивления $R$ наноперфорированных образцов
графена от положения уровня Ферми $E_{\text{F}}$ , которое изменялось с помощью напряжения на
затворе $V_g$. Наноперфорация проводилась с помощью облучения образцов графена на
подложке $\mathrm{Si}/\mathrm{SiO}_2$ либо тяжелыми (ксенон), либо легкими (гелий) ионами. При низких
температурах в отсутствие магнитного поля на зависимости $R(V_g)$ обнаружена серия
регулярных пиков. Пики связываются с прохождением $E_F$ через эквидистантную лестницу
уровней, образованных орбитально-квантованными состояниями краевых дираковских
фермионов (ДФ), вращающихся вокруг каждого наноотверстия. Результаты согласуются с
теорией краевых состояний для безмассовых ДФ.