Аннотация:
Обнаружено, что вопреки общепринятому представлению одновременное
облучение ионами Ar$^+$ ($15$ кэВ) и электронами ($2.5$ кэВ) при температурах
выше $0.5T_m$ ($T_m$ –
температура плавления) вызывает значительно большее распыление металлов Cu, Ni и
стали, чем облучение только ионами Ar$^+$. Эффект нарастает с ростом температуры.
При $T= 0.7T_m$ коэффициенты ионно-электронного распыления превышают
коэффициенты распыления только ионами Ar$^+$ более чем в 2 раза.
Эксперименты по изучению сублимации
меди показали, что при нагреве образца электронным пучком скорость сублимации больше,
чем при нагреве в электровакуумной печи. Обнаруженные эффекты объясняются
возбуждением электронами адатомов (выступающих над поверхностью атомов, которые
создаются ионной бомбардировкой). Возбужденные адатомы имеют меньшую энергию
связи с поверхностью и легче распыляются.