Аннотация:
Представлен метод анализа магнито-эллипсометрических измерений. Детально рассматривается двуслойная модель ферромагнитных отражающих пленок. Полученный алгоритм может использоваться для контроля оптических и магнито-оптических свойств пленок в процессе их роста в вакуумных камерах.
Ключевые слова:магнито-оптическая эллипсометрия, эффект Керра, двухслойная модель, ферромагнетик, отражение, контроль роста.