RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал Сибирского федерального университета. Серия «Математика и физика» // Архив

Журн. СФУ. Сер. Матем. и физ., 2017, том 10, выпуск 4, страницы 399–409 (Mi jsfu569)

Temperature-dependent photoconductance and optical properties of In$_2$O$_3$ thin films prepared by autowave oxidation

[Температурная зависимость фотопроводимости и оптические свойства тонких пленок In$_2$O$_3$, полученных методом автоволнового окисления]

Igor A. Tambasova, Viktor G. Myagkova, Alexander A. Ivanenkoa, Mikhail N. Volochaeva, Anton S. Voroninb, Fedor S. Ivanchenkoc, Ekaterina V. Tambasovad

a Kirensky Institute of Physics SB RAS, Akademgorodok, 50/38, Krasnoyarsk, 660036, Russia
b Krasnoyarsk Scientific Center SB RAS, Akademgorodok 50, Krasnoyarsk, 660036, Russia
c Siberian Federal University, Svobodny 79, Krasnoyarsk, 660041, Russia
d Reshetnev Siberian State Aerospace University, Krasnoyarskii Rabochii, 31, Krasnoyarsk, 660037, Russia

Аннотация: Экспериментально исследовано влияние ультрафиолетового (УФ) излучения и температуры на электрические и оптические свойства пленок In$_2$O$_3$, полученных методом автоволнового окисления. При измерении в темноте сопротивление пленки менялось незначительно при температурах от 300 до 95 К и более заметно при дальнейшем уменьшении температуры. Под воздействием УФ-облучения удельное сопротивление пленок при комнатной температуре резко снизилось на $\sim$25 %, от 300 до 95 К, и продолжало снижаться до $\sim$38 % с дальнейшим понижением температуры. При отключении УФ-источника значение сопротивления релаксировало со скоростью 15 Ом/с в течение первых 30 секунд и 7 Ом/с в течение оставшегося времени. После прекращения облучения коэффициент пропускания снизился на 3,1 % при длине волны 6,3 мкм. Скорость релаксации коэффициента пропускания составила 0,006 %/с. Релаксации электрического сопротивления и коэффициента пропускания после прекращения УФ-облучения были одинаковыми. Предполагается, что доминирующим механизмом, ответственным за изменения проводимости в пленках оксида индия в процессе УФ-облучения, было фотовосстановление.

Ключевые слова: тонкие пленки In$_2$O$_3$, фотопроводимость, автоволновое окисление.

УДК: 538.958

Получена: 09.11.2016
Исправленный вариант: 26.03.2017
Принята: 03.04.2017

Язык публикации: английский

DOI: 10.17516/1997-1397-2017-10-4-399-409



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024