RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1984, том 54, выпуск 5, страницы 917–928 (Mi jtf1785)

Возможности повышения термостабильности монокристаллического кремния для мощных полупроводниковых приборов

Н. Т. Баграев, Л. С. Власенко, В. М. Волле, В. Б. Воронков, И. В. Грехов, В. В. Добровенский, А. И. Шагун

Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, Ленинград

Аннотация: С помощью оптической поляризации ядерных моментов изучены дефекты решетки, возникающие в процессе высокотемпературной обработки и последующего охлаждения монокристаллов кремния. Обнаружены термодефекты как донорного, так и акцепторного типа. Показано, что, уменьшая скорость охлаждения монокристаллов после высокотемпературной обработки, можно добиться стабильности параметров материала. Изучено влияние на образование термодефектов примесей редкоземельных элементов (РЗЭ), а также способов обработки поверхности монокристаллов кремния. Показано, что с помощью введения РЗЭ можно повысить термостабильность монокристаллического кремния.

УДК: 621.382

Поступила в редакцию: 04.08.1983



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024