RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1984, том 54, выпуск 7, страницы 1270–1275 (Mi jtf1858)

Плазма

Прилипание электронов в смесях O$_{2}{-}$CO$_{2}$ и O$_{2}{-}$H$_{2}$O и его зависимость от электронной температуры

И. В. Кочетов, Л. В. Шачкин, В. М. Шашков


Аннотация: В широком диапазоне значений характеристической энергии электронов определены константы скорости прилипания электронов в смесях O$_{2}$ с H$_{2}$O и CO$_{2}$. $K_{\text{O}_{2}{-}\text{H}_{2}\text{O}}$ изменяется от ${4\cdot10^{-29}}$ до ${3\cdot10^{-30}\,\text{см}^{6}\cdot\text{с}^{-1}}$ при увеличении $D/\mu$ от 0.1 до 1.0 эВ, а $K_{\text{O}_{2}{-}\text{C}\text{O}_{2}}$ ${3\cdot10^{-30}}$ до ${1.5\cdot10^{-30}\,\text{см}^{6}\cdot\text{с}^{-1}}$ при $D/\mu$ от 0.03 до 1.0 эВ. Показано, что прилипание электронов в смеси O$_{2}{-}$CO$_{2}$ при больших $D/\mu$ не может быть описано обычным двухступенчатым механизмом Блоха–Брэдбери.

УДК: 533.332

Поступила в редакцию: 07.06.1983



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024