Аннотация:
Приведены результаты рентгеновской фотоэлектронной
и оптической спектроскопии аморфных оксидных пленок на ниобии и тантале
в исходном состоянии и после термообработки в различных условиях. Установлено,
что при термообработке оксидов в вакууме при температуре 500$-$750 K
повышается концентрация низковалентных, по сравнению с предельной степенью
окисления, основных катионов. Экспериментально показано, что увеличение
концентрации низковалентных катионов с повышением температуры нагрева образцов
приводит к экспоненциальному росту электрической проводимости. Обнаружено, что
термообработка оксидных слоев при определенных условиях приводит к уменьшению
концентрации низковалентных основных катионов и, как следствие, к уменьшению
электрической проводимости. Полученные результаты объясняются в предположении,
что в близкой к идеальной (полностью скоординированной) структуре аморфных
оксидов низковалентные основные катионы представляют
собой локализованные дефекты типа оборванных связей.