RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 1986, том 56, выпуск 8, страницы 1552–1561 (Mi jtf316)

Плазма

Захват ионов в прикатодную потенциальную яму и его влияние на поджиг разряда I.  Стационарный поджиг

А. А. Богданов, А. М. Марциновский

Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе АН СССР, Ленинград

Аннотация: В стационарных предподжиговых режимах плоского диода, заполненного парами цезия, исследовано заполнение прикатодной потенциальной ямы медленными ионами, образовавшимися в результате перезарядки. Приводятся предподжиговые вольт-амперные характеристики диода в диапазоне давлений цезия ${p=10^{-3}\div2\cdot10^{-1}}$ Тор для токов эмиссии до 10 А/см$^{2}$. Зондовыми и оптическими методами показана трансформация потенциального рельефа по зазору и образование прикатодной плазмы и анодного слоя. В полетных по электронам режимах с прикатодной плазмой обнаружены колебания тока с периодом $\sim$ мкс. Показано, что образование прикатодной плазмы изменяет напряжение поджига и увеличивает предельный предподжиговый ток в 100 и более раз.

УДК: S3 7.52J

Поступила в редакцию: 19.07.1985



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024