Аннотация:
Решена кинетическая задача о функции распределения
электронов и профиле потенциала в прианодном слое тлеющего разряда
при малых токах, когда межэлектронные столкновения несущественны и потенциал
анода относительно плазмы положителен. Построены также профили концентрации
и потенциала в прианодной плазменной области. Результаты расчета
удовлетворительно согласуются с экспериментом. При уменьшении тока толщина
слоя объемного заряда растет, и пока она остается меньше длины неупругих
ударов, уменьшается и перепад потенциала в слое, ионизация в котором
создает ионный поток в плазме. При меньших токах вольт-амперная
характеристика слоя становится падающей. При еще меньших токах происходит
переход к локальному режиму, когда диффузия электронов несущественна,
а ионизация определяется локальным значением электрического поля. При больших
токах применимо гидродинамическое описание. В этом случае потенциал анода может
быть отрицательным.