Эта публикация цитируется в
4 статьях
XXV Международный симпозиум Нанофизика и наноэлектроника, Н. Новгород, 9--12 марта 2021 г.
Твердое тело
Особенности деформирования круглых тонкопленочных мембран и экспериментальное определение их эффективных характеристик
А. А. Дедковаa,
П. Ю. Глаголевa,
Е. Э. Гусевa,
Н. А. Дюжевa,
В. Ю. Киреевa,
С. А. Лычевb,
Д. А. Товарновa a Национальный исследовательский университет "МИЭТ"
b Институт проблем механики им. А. Ю. Ишлинского Российской академии наук, г. Москва
Аннотация:
Рассмотрены особенности тонкопленочных мембран, сформированных над круглыми отверстиями в кремниевых подложках с помощью Бош-процесса травления. Из-за напряженного состояния исходных пленок мембраны имеют сложную форму. Для расчета механических характеристик мембраны посредством анализа зависимости прогиба мембраны
$w$ от поданного на нее избыточного давления
$P$ необходимо определение непосредственно на мембране: ее диаметра, толщин составляющих ее слоев, изменения рельефа поверхности мембраны по всей ее площади по мере увеличения давления
$P$. На примере
$p$-Si
$^{*}$/SiN
$_{x}$/SiO
$_{2}$- и SiN
$_{x}$/SiО
$_{2}$/SiN
$_{x}$/SiО
$_{2}$-мембран показано определение диаметра мембраны и толщин составляющих слоев. Использованы методы спектральной эллипсометрии, рентгеновского энергодисперсионного микроанализа, оптической профилометрии и оптической микроскопии. Показано влияние особенностей условий закрепления мембран на их напряженно-деформированное состояние, проведена оценка посредством численного моделирования. Разработана методика измерений и расчета механических характеристик мембран, имеющих начальный прогиб. Результат расчета показан на примере мембраны с начальным прогибом 2
$\mu$m – SiN
$_{x}$/SiО
$_{2}$/SiN
$_{x}$/SiО
$_{2}$ и мембраны с начальным прогибом 30
$\mu$m – Al/SiO
$_{2}$/Al.
Ключевые слова:
тонкие пленки, мембрана, дефект, механические характеристики, механические напряжения, деформация, модуль Юнга, модуль упругости, прогиб, микроэлектромеханические системы, МЭМС, круглая мембрана, кремниевая подложка, оптическая профилометрия, избыточное давление.
Поступила в редакцию: 26.04.2021
Исправленный вариант: 26.04.2021
Принята в печать: 26.04.2021
DOI:
10.21883/JTF.2021.10.51357.121-21