RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2020, том 90, выпуск 12, страницы 2047–2053 (Mi jtf5124)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Плазма

Особенности распределения неоднородного электростатического поля в системе с изменяемой конфигурацией электродов устройства, формирующего высоковольтный газовый разряд

М. А. Маркушин, В. А. Колпаков, С. В. Кричевский

Самарский национальный исследовательский университет имени академика С. П. Королева

Аннотация: Предложена модель распределения неоднородного электростатического поля в системе с изменяемой конфигурацией электродов устройства, формирующего высоковольтный газовый разряд. Показана возможность применения метода конформного отображения функции комплексной переменной для аналитического описания характера распределения силовых линий и эквипотенциалей поля, зависящего от диаметра круглого отверстия в аноде, его толщины и межэлектродного расстояния, изменяющихся в пределах $D$ = 1 – 5 mm, $\Delta h$ = 0.5 –5 mm, $h$ = 1.2 – 5 mm соответственно. Получены расчетные изображения электрического поля, позволяющие определить их связь с электрофизическими параметрами электродной системы устройства. На основе полученных результатов расчета дополняются и уточняются обширные экспериментальные данные, касающиеся исследования особенностей такого разряда.

Ключевые слова: низкотемпературная плазма, высоковольтный газовый разряд, конформное отображение, электростатическое поле, концентрация заряженных частиц.

Поступила в редакцию: 17.01.2020
Исправленный вариант: 29.04.2020
Принята в печать: 12.05.2020

DOI: 10.21883/JTF.2020.12.50120.21-20


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2020, 65:12, 1956–1962

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024