RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2019, том 89, выпуск 5, страницы 731–736 (Mi jtf5619)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Физическое материаловедение

Рентгеновская диагностика дефектов микроструктуры кристаллов кремния, облученных ионами водорода

В. Е. Асадчиков, И. Г. Дьячкова, Д. А. Золотов, Ю. С. Кривоносов, Ф. Н. Чуховский

Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова РАН, Федеральный научно-исследовательский центр "Кристаллография и фотоника" РАН, Москва, Россия

Аннотация: Изучены особенности образования и трансформации радиационных дефектов в приповерхностных слоях кремниевых пластин, имплантированных ионами водорода. Используя метод рентгеновской двухкристальной дифрактометрии высокого разрешения, определены значения основных параметров, таких как средняя эффективная толщина $L_{\operatorname{eff}}$ и средняя относительная деформация $\Delta a/a$ легированного слоя в зависимости от дозы имплантации и температуры подложки.

Поступила в редакцию: 25.09.2018
Исправленный вариант: 25.09.2018
Принята в печать: 23.10.2018

DOI: 10.21883/JTF.2019.05.47476.346-18


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2019, 64:5, 680–685

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024