Электронные и оптические свойства нанопленок NiSi$_{2}$/Si

Определены оптимальные условия ионной имплантации и последующего отжига для получения наноразмерных пленок NiSi$_{2}$/Si (111) с толщиной 3.0 – 6.0nm. Показано, что зонно-энергетические параметры и оптические свойства, характерные для толстых пленок NiSi$_{2}$, начинают устанавливаться с $d$ = 5.0 – 6.0 nm.