RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2019, том 89, выпуск 4, страницы 620–626 (Mi jtf5653)

Эта публикация цитируется в 3 статьях

Физическая электроника

Модель термического окисления кремния

А. В. Фадеевa, Ю. Н. Девяткоb

a Физико-технологический институт РАН, г. Москва
b Национальный исследовательский ядерный университет "МИФИ", г. Москва

Аннотация: Миниатюризация и увеличение скорости работы электронных приборов требует получения диэлектрических пленок оксида кремния нанометровой толщины. Для создания таких структур необходимо понимание процесса начального окисления кремния. Предложена теоретическая модель термического окисления тонких монослоев кремния, учитывающая рост напряжений в переходном слое оксид – подложка по мере накопления в нем кислорода.

Поступила в редакцию: 26.04.2018
Исправленный вариант: 28.09.2018

DOI: 10.21883/JTF.2019.04.47323.165-18


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2019, 64:4, 575–581

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024