Аннотация:
Методами рентгеновской топографии и просвечивающей
электронной микроскопии изучалось дефектообразование в гетероструктурах
GaAlSb/GaSb полученных жидкостной эпитаксией. Выявлены особенности
формирования сетки дислокаций несоответствия (ДН) при использовании подложек,
отличающихся легированием и плотностью ростовых дислокаций. Обсуждаются
причины обнаруженных особенностей и предлагаются рекомендации по
совершенствованию получения таких гетероструктур.