RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2019, том 89, выпуск 2, страницы 252–257 (Mi jtf5698)

Твердотельная электроника

Поверхностный тепловой интерфейс для мощных арсенид-галлиевых гетероструктурных полевых транзисторов

А. Б. Пашковский, И. В. Куликова, В. Г. Лапин, В. М. Лукашин, Н. К. Приступчик, Л. В. Манченко, В. Г. Калина, М. И. Лопин, А. Д. Закурдаев

Государственное научно-производственное предприятие "Исток", г. Фрязино, Московская обл.

Аннотация: Проведен теоретический анализ возможностей использования теплопроводящих покрытий для охлаждения мощных полевых транзисторов на основе гетероструктур с арсенид-галлиевой подложкой. При сохранении базовой технологии изготовления транзисторов и без дополнительных мер по уменьшению теплового сопротивления подложки введение дополнительного теплового интерфейса в виде диэлектрического теплопроводящего покрытия позволяет значительно уменьшить перегрев канала транзистора. В зависимости от толщины покрытия, конструкции транзистора и режима его работы перегрев канала может быть снижен в несколько раз.

Поступила в редакцию: 26.09.2017

DOI: 10.21883/JTF.2019.02.47079.2493


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2019, 64:2, 220–225

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024