Влияние низкоэнергетической ионно-плазменной обработки на остаточные напряжения в тонких пленках хрома

Представлены результаты исследования влияния бомбардировки ионами аргона низкой энергии ($\sim$ 30 eV) на остаточные механические напряжения в тонкой пленке хрома. Изменение среднего значения и градиента напряжений в зависимости от длительности ионной бомбардировки определялось по изменению изгиба тестовых микромеханических мостов и кантилеверов. Предложена методика расчета глубины модификации напряжений в пленке с использованием этих структур. Установлено, что длительная ионно-плазменная обработка при комнатной температуре оказывает воздействие на напряжения на глубине более 100 nm.