Влияние температуры отжига на микроструктуру и морфологию пленок TiN, синтезированных методом дуального магнетронного распыления

Пленки TiN, синтезированные на подложках лейкосапфира методом дуального магнетронного распыления, подвергли последующему отжигу в вакууме при 600, 700, 800 и 900$^\circ$C в течение 2 min. Микроструктуру и морфологию пленок при различных температурах исследованы методами рентгеновской дифракции и сканирующей электронной микроскопии. Установлено, что отжиг влияет на изменения в микроструктуре, текстуре, размере зерна и шероховатости пленок TiN.