RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2018, том 88, выпуск 7, страницы 1110–1115 (Mi jtf5882)

Эта публикация цитируется в 4 статьях

Физические приборы и методы эксперимента

Применение ИК микроскопии для прецизионного контроля диффузионных профилей распределения примесей железа и хрома в халькогенидах цинка

Т. В. Котерева, В. Б. Иконников, Е. М. Гаврищук, А. М. Потапов, Д. В. Савин

Институт химии высокочистых веществ РАН им. Г. Г. Девятых, г. Нижний Новгород

Аннотация: Предложена методика для прецизионного, экспрессного и неразрушающего контроля поведения допанта в лазерных средах на основе халькогенидов цинка. Полученные результаты показывают возможность определения методом ИК спектроскопии в сочетании с ИК микроскопом концентрационных профилей допанта в виде ионов Fe$^{2+}$ и Cr$^{2+}$ в халькогенидах цинка в интервале концентраций от 5 $\cdot$ 10$^{17}$ до 2.5 $\cdot$ 10$^{20}$ at/сm$^{3}$ с пространственным разрешением до нескольких микрометров. Определены диффузионные профили при солегировании халькогенидов цинка несколькими примесями одновременно.

Поступила в редакцию: 22.11.2017

DOI: 10.21883/JTF.2018.07.46189.2572


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2018, 63:7, 1079–1083

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024