RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2018, том 88, выпуск 2, страницы 219–223 (Mi jtf5992)

Эта публикация цитируется в 1 статье

Физическое материаловедение

Влияние частоты вращения дискового подложкодержателя на кристаллоструктурные характеристики слоев арсенида галлия, формируемых в процессе MOCVD эпитаксии

П. Б. Болдыревскийa, Д. О. Филатовa, И. А. Казанцеваa, М. В. Ревинa, Д. С. Смотринa, П. А. Юнинb

a Нижегородский государственный университет им. Н. И. Лобачевского
b Институт физики микроструктур РАН, г. Нижний Новгород

Аннотация: Изучено влияние частоты вращения дискового подложкодержателя на механизм роста и кристаллоструктурные характеристики слоев арсенида галлия, формируемых в процессе газофазной эпитаксии с использованием металлоорганических соединений и гидридов (MOCVD). Установлены зависимости скорости и механизма роста, общей степени совершенства кристаллической структуры слоев при изменении частоты вращения от 0 до 400 rpm.

Поступила в редакцию: 24.06.2017

DOI: 10.21883/JTF.2018.02.45411.2405


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2018, 63:2, 211–215

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024