Аналитическая модель атомно-слоевого осаждения пленок на 3D-структурах с высоким аспектным отношением

Предложена теоретическая модель, позволяющая предсказать пространственный профиль пленки, нанесенной на стенки высокоаспектной структуры (тренча) методом атомно-слоевого осаждения, в зависимости от параметров процесса осаждения. Модель позволяет рассчитать оптимальное время дозирования прекурсора, необходимое для конформного покрытия стенок тренча. Получена приближенная формула, описывающая осаждение пленок равной толщины на стенки тренча, включающая два асимптотических режима осаждения при различных соотношениях между коэффициентом прилипания молекул прекурсора и аспектным отношением структуры тренча.