RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2017, том 87, выпуск 10, страницы 1578–1584 (Mi jtf6111)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физическая электроника

Влияние электронного насыщения таммовских уровней на автоэмиссионные свойства кристаллов кремния

Р. К. Яфаров

Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова РАН

Аннотация: Показано влияние плазмохимической модификации морфологии и состава поверхностной фазы на автоэмиссионные свойства кристаллов кремния. Установлено, что электронное насыщение таммовских уровней в процессе получения атомно-чистых поверхностей кристаллов кремния и стабилизирующая пассивация поверхностных атомов в высокоионизованной микроволновой плазме с использованием хладона-14 позволяет по сравнению с пластинами с естественным оксидным покрытием или после их ионно-физического травления в среде аргона более чем в два раза уменьшить пороги напряженности электрического поля, при которых начинается полевая эмиссия электронов, и более чем на порядок увеличить максимальные плотности автоэмиссионных токов. Рассмотрены физико-химические механизмы, ответственные за модификацию поверхности и автоэмиссионных характеристик кристаллов кремния.

Поступила в редакцию: 23.12.2016

DOI: 10.21883/JTF.2017.10.45004.2146


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2017, 62:10, 1585–1591

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024