RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2017, том 87, выпуск 4, страницы 584–592 (Mi jtf6265)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Физика низкоразмерных структур

Управление температурными полями в процессе искрового плазменного спекания термоэлектриков

Л. П. Булатa, А. В. Новотельноваa, А. С. Тукмаковаa, Д. Е. Ережепa, В. Б. Освенскийb, А. И. Сорокинb, Д. А. Пшенай-Северинc, С. Ашмонтасd

a Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики
b Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности "Гиредмет", Москва, Россия
c Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
d State Research Institute Center for Physical Science and Technology, Vilnius, Lithuania

Аннотация: Выполнено моделирование процесса создания термоэлектриков методом искрового плазменного спекания наноструктурированных порошков для получения материалов с улучшенными термоэлектрическими свойствами. Проанализированы факторы, влияющие на распределение теплового поля в процессе спекания. Рассмотрено влияние геометрических параметров оснастки на формирование температурного градиентного поля, необходимого для эффективного спекания функционально-градиентных материалов и составных ветвей термоэлементов. Результаты работы могут использоваться для определения условий и режимов спекания функционально-градиентных материалов на установках искрового плазменного спекания и горячего прессования.

Поступила в редакцию: 30.08.2016

DOI: 10.21883/JTF.2017.04.44320.2025


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2017, 62:4, 604–612

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024