RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2016, том 86, выпуск 11, страницы 121–124 (Mi jtf6400)

Эта публикация цитируется в 2 статьях

Физическая электроника

Получение графеновых и графитовых пленок на поверхности Ni (111)

Е. В. Рутьковa, Е. Ю. Афанасьеваa, В. Н. Петровa, Н. Р. Галльab

a Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, г. Санкт-Петербург
b Институт аналитического приборостроения РАН, г. Санкт-Петербург

Аннотация: Изучен рост графеновых и графитовых пленок на поверхности никеля в условиях его сверхвысоковакуумного науглероживания и последующего отжига в широком интервале толщин пленки от монослойной до $\sim$1000 слоев. Показано, что охлаждение науглероженного при температуре 900–1500 K никеля приводит к росту на поверхности металла графеновых и тонких графитовых пленок, толщина которых зависит от температуры науглероживания и меньшей температуры, при которой происходит рост графитовых пленок. Растворение никеля с графитовой пленкой в разбавленной серной кислоте отделяет пленку от образца. При температурах науглероживания и роста 1500 K и 1100 K толщина пленки графита достигает величины $\sim$0.4 $\mu$m.

Поступила в редакцию: 09.02.2016


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2016, 61:11, 1724–1728

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024