Аннотация:
Исследована радиационная стойкость наноструктурированных покрытий TiN, TiAlN, TiAlYN при облучении ионами He$^{+}$ с энергией 500 keV в диапазоне флюенсов от 5 $\cdot$ 10$^{16}$ до 3 $\cdot$ 10$^{17}$ ions/cm$^{2}$. Изучено изменение фазового состава, структуры, параметров кристаллической решeтки, морфологии и механических свойств покрытий под воздействием облучения ионами гелия. Обнаружено отсутствие блистеринга, выявлен факт нелинейного влияния флюенса облучения на прочностные свойства тонких покрытий. Обнаружено значительное уменьшение размеров зерен в покрытиях при ионном облучении, что обусловливает увеличение микротвердости и радиационной стойкости покрытий. Установлено, что наноструктурированные покрытия TiN, TiAlN, TiAlYN являются радиационно-стойкими и не подвержены катастрофической деградации под воздействием высокофлюенсного ионного облучения.