RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Журнал технической физики
// Архив
ЖТФ,
2016
, том 86,
выпуск 4,
страницы
148–150
(Mi jtf6593)
Эта публикация цитируется в
6
статьях
Краткие сообщения
Состав морфология и электронная структура наноразмерных фаз, созданных на поверхности SiO
$_{2}$
бомбардировкой ионами Ar
$^{+}$
М. Б. Юсупжанова
,
Д. А. Ташмухамедова
,
Б. Е. Умирзаков
Ташкентский государственный технический университет
Аннотация:
Изучено влияние бомбардировки ионами Ar
$^{+}$
на состав и структуру поверхности SiO
$_{2}$
/Si. Обнаружено, что при высокодозной ионной бомбардировке на поверхности SiO
$_{2}$
образуется тонкая пленка Si.
Поступила в редакцию:
08.07.2015
Полный текст:
PDF файл (397 kB)
Список цитирования
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2016,
61
:4,
628–630
Реферативные базы данных:
©
МИАН
, 2024