RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2016, том 86, выпуск 4, страницы 148–150 (Mi jtf6593)

Эта публикация цитируется в 6 статьях

Краткие сообщения

Состав морфология и электронная структура наноразмерных фаз, созданных на поверхности SiO$_{2}$ бомбардировкой ионами Ar$^{+}$

М. Б. Юсупжанова, Д. А. Ташмухамедова, Б. Е. Умирзаков

Ташкентский государственный технический университет

Аннотация: Изучено влияние бомбардировки ионами Ar$^{+}$ на состав и структуру поверхности SiO$_{2}$/Si. Обнаружено, что при высокодозной ионной бомбардировке на поверхности SiO$_{2}$ образуется тонкая пленка Si.

Поступила в редакцию: 08.07.2015


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2016, 61:4, 628–630

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024