Магнетронный источник ускоренного плазменного потока

Представлен новый источник ускоренного плазменного потока, предназначенный для нанесения качественных покрытий. В нем зажигается комбинация магнетронного разряда для распыления катодной мишени и высоковольтного разряда с продольной осцилляцией электронов для ионизации наработанного пара, плотность плазмы которого распределяется равномерно благодаря применению трехфазного ионизатора.