RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2021, том 91, выпуск 2, страница 367 (Mi jtf6674)

Статьи, опубликованные в английской версии журнала

Erratum to: Effect of Conductivity Type and Doping Level of Silicon Crystals on the Size of Formed Pore Channels during Anodic Etching in Hydrofluoric Acid Solutions

G. G. Zegryaa, V. P. Ulina, A. G. Zegryaa, N. V. Ulina, V. M. Fraimana, Yu. M. Mikhailovb

a Ioffe Institute, 194021, St. Petersburg, Russia
b Institute of Problems of Chemical Physics, Russian Academy of Sciences, Chernogolovka, Moscow region

Язык публикации: английский


 Англоязычная версия: Technical Physics, 2021, 66:2, 367

Реферативные базы данных:


© МИАН, 2024