RUS
ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ
// Журнал технической физики
// Архив
ЖТФ,
2021
, том 91,
выпуск 2,
страница 367
(Mi jtf6674)
Статьи, опубликованные в английской версии журнала
Erratum to: Effect of Conductivity Type and Doping Level of Silicon Crystals on the Size of Formed Pore Channels during Anodic Etching in Hydrofluoric Acid Solutions
G. G. Zegrya
a
,
V. P. Ulin
a
,
A. G. Zegrya
a
,
N. V. Ulin
a
,
V. M. Fraiman
a
,
Yu. M. Mikhailov
b
a
Ioffe Institute, 194021, St. Petersburg, Russia
b
Institute of Problems of Chemical Physics, Russian Academy of Sciences, Chernogolovka, Moscow region
Язык публикации:
английский
Полный текст:
PDF файл (23 kB)
Англоязычная версия:
Technical Physics, 2021,
66
:2,
367
Реферативные базы данных:
©
МИАН
, 2024