RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2024, том 94, выпуск 10, страницы 1713–1719 (Mi jtf6884)

Физика низкоразмерных структур

Исследование механизма рельефообразования на слоях жидких фотополимеризующихся композиций

В. С. Соловьевa, Н. А. Расщепкинаb, Д. М. Якуненковаc, А. Е. Чалыхd

a Национальный исследовательский университет "МИЭТ", 124498 Москва, Россия
b Самарский государственный технический университет, 443010 Самара, Россия
c Самарский государственный аэрокосмический университет, 443010 Самара, Россия
d Институт физической химии и электрохимии им. А. Н. Фрумкина РАН, 119071 Москва, Россия

Аннотация: Проведено теоретическое и экспериментальное исследование механизма образования микрорельефа на слоях жидких фотополимеризующихся композиций. Поставлен прямой эксперимент по предотвращению диффузионного массопереноса в постэкспозиционный период. Эксперимент показал, что диффузия жидкого олигомера из темных в светлые зоны в постэкспозиционный период отсутствует. Сделан вывод, что благодаря микрогетерогенному механизму полимеризации рост рельефа в постэкспозиционный период обусловлен набуханием полимерных глобул в оставшемся после полимеризации олигомере.

Ключевые слова: жидкие фотополимеризующиеся композиции, микрорельеф, степень конверсии, микрогетерогенный механизм, радикальная полимеризация.

Поступила в редакцию: 19.03.2024
Исправленный вариант: 03.07.2024
Принята в печать: 04.07.2024

DOI: 10.61011/JTF.2024.10.58866.88-24



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025