RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2023, том 93, выпуск 7, страницы 1046–1050 (Mi jtf7048)

Эта публикация цитируется в 1 статье

XXVII Международный симпозиум ''Нанофизика и наноэлектроника'' Н. Новгород, 13-16 марта, 2023 г.
Физическая электроника

Изучение влияния энергии ионов неона на шероховатость поверхности основных срезов монокристаллического кремния при ионном травлении

М. С. Михайленко, А. Е. Пестов, А. К. Чернышев, М. В. Зорина, Н. И. Чхало, Н. Н. Салащенко

Институт физики микроструктур РАН, 607680 Нижний Новгород, Россия

Аннотация: Приведены результаты изучения энергетических зависимостей коэффициента распыления и величины эффективной шероховатости поверхности монокристаллического кремния при облучении ионами неона с энергией 100–1000 eV. Определены параметры ионно-пучкового травления ускоренными ионами Ne, обеспечивающие высокий коэффициент распыления (скорость травления). Установлено значение эффективной шероховатости в диапазоне пространственных частот 4.9 $\cdot$ 10$^{-2}$ – 6.3 $\cdot$ 10$^1$ $\mu$m$^{-1}$, составившее менее 0.3 nm для основных срезов монокристаллического кремния $\langle$100$\rangle$, $\langle$110$\rangle$ и $\langle$111$\rangle$.

Ключевые слова: поверхность, шероховатости, распыление, ионное травление.

Поступила в редакцию: 12.05.2023
Исправленный вариант: 12.05.2023
Принята в печать: 12.05.2023

DOI: 10.21883/JTF.2023.07.55767.114-23



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025