Изучение угловых зависимостей скоростей ионно-пучкового распыления металлов для синтеза заготовок фотошаблонов

Рассмотрено применение никеля как альтернативного материала-поглотителя при изготовлении заготовки маски для литографии в окрестности длины волны 11.2 nm. Установлено значение оптимального угла для эффективного распыления источниками ускоренных ионов аргона мишеней из Ru, Be и Ni для изготовления многослойной структуры Ru/Be с верхним слоем из Ni. Показано, что при угле 60$^\circ$ скорость травления всех трех материалов составляет 35 $\pm$ 5 nm/min для ионов аргона с энергией 800 eV при плотности ионного тока 0.5 mA/cm$^2$.