RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2023, том 93, выпуск 8, страницы 1101–1112 (Mi jtf7054)

Плазма

Изучение диодных свойств двойного слоя комбинированного газового разряда

Б. М. Бржозовскийa, М. Б. Бровковаa, С. Г. Гестринb, Е. П. Зининаa, В. В. Мартыновa

a Институт машиноведения им. А.А. Благонравова РАН, 101990 Москва, Россия
b Саратовский государственный технический университет имени Гагарина Ю. А., 410054 Саратов, Россия

Аннотация: Показано, что при зажигании вблизи поверхности обрабатываемого изделия, размещенного в резонаторной камере, комбинированного газового разряда, возникает двойной слой, обладающий диодными свойствами. Повышение уровня подводимой в камеру СВЧ мощности привело к уменьшению сопротивлений эквивалентного диода в открытом и закрытом режимах и увеличению тока, протекающего через установку. Попадающие на поверхность изделия ионы ионизированного СВЧ полем технологического газа (азота или аргона), наполняющего камеру, диффундируют внутрь изделия в результате процесса термодиффузии, что привело к образованию упрочняющего поверхностного слоя. Разогрев изделия происходил при подаче на него положительного потенциала смещения потоком поступающих на поверхность высокоэнергичных электронов, ускоренных до энергий в десятки и сотни электронвольт в зоне ускорения разряда.

Ключевые слова: комбинированный разряд, низкотемпературная плазма, ионно-плазменное диффузионное внедрение, плазменная упрочняющая обработка, двойной слой, диодный эффект.

Поступила в редакцию: 24.01.2023
Исправленный вариант: 26.04.2023
Принята в печать: 29.04.2023

DOI: 10.21883/JTF.2023.08.55971.11-23



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025