RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2023, том 93, выпуск 11, страницы 1596–1609 (Mi jtf7126)

Твердотельная электроника

Физические и химические закономерности импульсного микроплазменного формирования оксидных покрытий микронной точности

А. И. Мамаев, В. А. Мамаева, Ю. Н. Беспалова

Национальный исследовательский Томский государственный университет, 634050 Томск, Россия

Аннотация: Определены основные факторы влияния параметров импульсного микроплазменного оксидирования и режима движения электролита в гидродинамических пограничных слоях на физику и химию микроплазменных процессов в водных растворах электролитов. В результате математического моделирования микроплазменных процессов получено уравнение, связывающее параметры оксидирования, характеристики электролита, пространственные параметры, толщину пористого оксидного слоя и продолжительность горения разряда. Показано влияние вязкости и режима движения электролита на вольт-амперные характеристики, спектры отражения и структуру поверхности покрытий. Доказано, что импульсное микроплазменное оксидирование при малых длительностях импульса напряжения позволяет управлять характеристиками покрытия и создавать пористые структуры микронной точности заданного строения.

Ключевые слова: оксидные покрытия, микроплазменное оксидирование, электролит, пористый слой, слой Прандтля.

Поступила в редакцию: 21.06.2023
Исправленный вариант: 26.09.2023
Принята в печать: 26.09.2023

DOI: 10.61011/JTF.2023.11.56491.154-23



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025