RUS  ENG
Полная версия
ЖУРНАЛЫ // Журнал технической физики // Архив

ЖТФ, 2023, том 93, выпуск 11, страницы 1610–1615 (Mi jtf7127)

Твердотельная электроника

Влияние площади контактов на мемристивные характеристики структур на основе парилена в одиночной и кроссбар-геометрии

Б. С. Швецовab, Г. А. Юкляевскихa, К. Ю. Черноглазовb, А. В. Емельяновb

a Московский государственный университет имени М. В. Ломоносова, 119991 Москва, Россия
b Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", 123098 Москва, Россия

Аннотация: Исследовано влияние площади и геометрии контактов на основные мемристивные характеристики структур на основе парилена. Показана независимость от площади контактов таких мемристивных характеристик, как напряжение переключений в низкоомное и высокоомное состояния, а также сопротивлений образцов в низкоомном состоянии. При этом сопротивления в высокоомном состоянии увеличиваются с уменьшением площади, что подтверждает однофиламентарную модель резистивных переключений, а также позволяет увеличить окно сопротивлений в таких структурах.

Ключевые слова: мемристоры, резистивное переключение, нейроморфные системы, парилен.

Поступила в редакцию: 04.07.2023
Исправленный вариант: 20.09.2023
Принята в печать: 25.09.2023

DOI: 10.61011/JTF.2023.11.56492.166-23



Реферативные базы данных:


© МИАН, 2025