Стационарный СВЧ источник плазмы

Описываются стационарный СВЧ источник плазмы, его характеристики и возможность заполнения открытой магнитной ловушки плазмой, инжектируемой из него. В источнике плазма создается на частоте 2400 МГц (подводимая мощность до 150 Вт) в режиме электронного циклотронного резонанса (ЭЦР) при давлении аргона $10^{-5}{-}10^{-2}$ Тор. Изменяя условия разряда, можно изменять концентрацию инжектируемой плазмы от $10^{9}$ до $10^{12}\,\text{см}^{-3}$, при этом ${T_{e}=3\div8}$ эВ. Экспериментально показана возможность эффективной инжекции плазмы из источника в открытые магнитные ловушки различной конфигурации.