Динамика изменения отражательной способности терморегулирующего покрытия при воздействии УФ излучения и атомарного кислорода

Рассматривается влияние УФ излучения на алюминиевое анодно-окисное покрытие (АОП) с учетом кинетики образования радиационных дефектов, радиационно-стимулированной диффузии атомарного кислорода и дефектов, эрозии материала, поглощения излучения на дефектах. В рамках модели тонкого приповерхностного слоя исследуется динамика изменения отражательной способности покрытия. В основе исследования лежат представления о механизме образования радиационных дефектов [1].